全禁带三维光子晶体压印成型方法
成果概况
| 成果类别: | 应用技术 | 体现形式: | 新技术 | 课题来源: | 自选课题 |
| 起止时间: | 2007.01 至2008.01 | 研究形式: | 独立研究 | 所处阶段: | 初期阶段 |
| 成果属性: | 原始性创新 |
成果简介
本发明涉及微纳制造技术领域,介绍了一种全禁带三维光子晶体的压印成型制造方法。以高分子聚合物硅橡胶或聚甲基丙烯酸甲酯作为基体材料,采用纳米压印的方式在高分子聚合物基体材料中填入单分散胶体颗粒(聚苯乙烯、二氧化硅或二氧化钛),使单分散胶体颗粒在高分子聚合物基体材料中形成面心立方结构。在压印模板凸起部分吸附单分散胶体颗粒,并以微接触式纳米压印工艺使单分散胶体颗粒在液态高分子聚合物基体材料上形成了具有面心立方111面的二维结构,其中单分散胶体颗粒即为面心立方111面上的基元,之后逐层叠加,最终形成具有面心立方结构的全禁带三维光子晶体。
应用前景
| 主要应用行业: | 制造业 | 知识产权形式: | 专利 |
| 应用状态: | 产业化应用 | 拟转化方式: |
单位概况
| 完成单位: | 西安交通大学 | ||||
| 单位地址: | 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号 | ||||
| 单位电话: | 029-82668234;82668338 |
联系方式
| 联系人: | 刘洪忠 | 联系人电话: | 029-82668330 | 联系人Email: |
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